详解荷兰芯片新规影响哪些DUV型号
的有关信息介绍如下:荷兰芯片新规主要影响了最先进的浸润式DUV光刻系统,特别是那些能够生产高端芯片、微处理器和存储器的设备。具体来说,受影响的主要包括:TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。这些系统需要向荷兰政府申请出口许可证,以便继续出口到某些国家或地区。ASML公司已经向荷兰政府提交了这些系统的出口许可申请,并在今年内获得了必要的许可证,以确保能够履行与客户签订的合同。能生产先进制程芯片的高端DUV光刻机型号。这些高端型号的采购受到了限制,主要涉及能够生产28nm及更先进制程的芯片的光刻机。不过,2000i之前的型号暂时不受影响。这些措施的实施,主要是为了国家安全考虑,并扩展了对特定半导体制造设备的出口管制范围。虽然这可能会对芯片制造能力和良率产生一定影响,但ASML已经通过申请许可证来应对这些限制,以确保其业务连续性。